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                    2. 复旦大学微电子工艺 第三讲 实验室净化与硅片清洗

                      来源:互联网 由 儒雅的速8 贡献 责任编辑:李志  

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                      集成电路工艺原理

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      集成电路工艺原理

                      仇志军 [email protected]

                      邯郸校区物理楼435室

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      本节课主要内容

                      硅单晶的制备: CZ 直拉法、 悬浮区熔法

                      掺杂分布: 有效分凝系数

                      衬底制备:整形、晶体定向、晶面标识、晶面加工 晶体缺陷: 点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗 大纲 (2)

                      第一章 第二章 第三章 第四章 第五章 第六章 第七章 第八章 第九章 第十章 第十一章 前言 晶体生长 实验室净化及硅片清洗 光刻 热氧化 热扩散 离子注入 薄膜淀积 刻蚀 后端工艺与集成 未来趋势与挑战

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      Modern IC factories employ a three tiered approach to controlling unwanted impurities(现代IC fabs依赖三道防线来控制沾污)

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      三道防线: ?环境净化(clean room) ?硅片清洗(wafer cleaning) ?吸杂(gettering)

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      1、空气净化

                      From Intel Museum

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                      集成电路工艺原理

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      净化级别:每立方英尺空气中含有尺度大于0.5mm的粒子 总数不超过X个。

                      0.5um

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      高效过滤

                      超细玻璃纤 维构成的多 孔过?#22235;ぃ?过滤大颗粒, 静电吸附小 泵 颗粒 循 环 系 统

                      20~22?C 40~46%RH 排气除尘

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      由于集成电路內各元件及连线相当微细,因此制造过程?#26657;?#22914; 果遭到?#39029;盡?#37329;属的污染,很容?#33258;?#25104;芯片内电路功能的损坏, 形成短路或断路,导致集成电路的失效!在现代的VLSI工厂?#26657;?75%的产品率下降都来源于硅芯片上的颗粒污染。

                      例1. 一集成电路厂 产量=1000片/周×100芯片/片,芯 片价格为$50/芯片,如果产率为50%,则正好保本。若 要年赢利$10,000,000,产率增?#26377;?#35201;为

                      $1? 10 ? 3. 8% 1000? 100? $50 ? 52

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                      年开支=年产能 为1亿3千万 1000×100×52×$50×50% =$130,000,000

                      产率提高3.8%,将带来年利润1千万美元!

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      Contaminants may consist of particles, organic films (photoresist), heavy metals or alkali ions.

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                      第三章 实验室净化及硅片清洗

                      外来杂?#23454;?#21361;害性 例2. MOS阈\r

                      复旦大学微电子学院简介

                      复旦大学微纳加工试验室

                      贵重蒸镀材料、探针、掩膜版、 硅片等)等进行实验...擅自带实验仪器等进入洁净室的, 带进实验室化学品...复旦大学微电子工艺 第三... 暂无评价 39页 2下载...

                      微电子制造工艺

                      集成电路分析与设计,以及微电子制造工艺专业实验及...工艺基础》 施敏 陈力俊 苏州大学出版社 复旦大学...硅和硅片制备 半导体制造中的化学品 硅片制造中的玷污...

                      微电子科学毕业论文题目(729个)

                      硅片清洗 微电子制造科学与技术计划中的干法刻蚀工艺...实验室”正式启动 ?#21040;?#35201;闻 电子科学与技术专业大学...复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室简介 宽...

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                      三肖中特期期难黄大仙
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